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国产芯片再获新技术，无需EUV光刻机也能实现7纳米，ASML慌了
下一代高NA EUV光刻机开发难度有多高？有望带来产业链更新升级
国产光刻机突然宣布重大消息，美国封锁14纳米光刻机将落空
美国最担心的事情：日本的光刻机卖给中国，就能实现5nm工艺
又一家中国大陆厂商，生产出光刻机？精度为3μm？
碳基芯片，能帮助中国芯超过美国，还不需要EUV光刻机？
EUV光刻机3大核心：2大来自德国，1大来自美国，ASML负责组装
美国限制ASML出售光刻机，中国加快国产光刻机替代
国产光刻机的艰难往事：给全套图纸，中国人也造不出光刻机？
我国多久能造出高端EUV光刻机？答案或许出乎意料
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