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三星自研EUV光罩保护膜透光率已达90%
5纳米无需EUV，ASML的光刻机将成废铁，中国市场成救命稻草
价格只有EUV的10%，佳能销售5nm光刻机，但不卖给中国
7nm芯片，不用EUV光刻机一样造，这就是我们的能力和底气？
2纳米无需EUV光刻机，ASML或面临灭顶之灾，难怪加紧对中国出货了
有点搞笑了，佳能5nm纳米压印技术，也离不开EUV光刻机
佳能纳米压印技术挑战EUV，台积电、联电、光罩有机会受益
佳能5nm NIL光刻机告诉我们，绕过EUV，或许才是出路
ASML真的慌！佳能绕开EUV，5nmNIL光刻机出货，可惜不卖给中国
国产EUV光刻要突破，三大核心中，仅一项稍有把握
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