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别神化ASML的EUV光刻机,没它,一样量产7nm芯片
2022-07-27 来源:互联网乱侃秀
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关键词:ASML光刻机芯片

EUV光刻机是当下最先进的芯片生产制造设备,主要用于生产制造7nm及以下制程的芯片,可以说,EUV光刻机出现后,其就供不应求。


据悉,ASML将大量的EUV光刻机出货给了台积电,剩下的则出货给了三星和英特尔,由于三星的数量少于台积电,所以在产能和良品率方面相对落后。


在这样的情况下,三星李在镕亲自前往荷兰总部,目的是想获得更多EUV光刻机,并想优先获得下一代EUV光刻机等更先进的设备。



而国内厂商早就全款订购了一台EUV光刻机,但由于各种原因,至今都没有到货,ASML也明确表示在没有许可的情况下,EUV光刻机是无法自由出货。


没有EUV光刻机,就无法量产7nm等制程的芯片,这实际上是一个错误的观点,而且,还把EUV光刻机给神化了,实际上,没它一样量产7nm芯片。


首先,第一代7nm芯片就是用DUV光刻机量产的,台积电就是这么干的,采用的是多层曝光工艺,只不过,相比EUV光刻机有点费事。



目前,厂商已经用多层曝光工艺量产了14nm芯片,良品率等敢于同国际大厂相比较,这说明国内厂商掌握的多层曝光工艺已经十分纯熟了。


在这样的情况下,用DUV光刻机量产7nm芯片有戏,毕竟,都是采用多层曝光工艺。


更何况,厂商都已经小范围内试产了N+1工艺的芯片,这种芯片在逻辑面积上与台积电的7nm芯片十分相似,只不过主打低功耗。


台积电还明确表示用DUV光刻机也能够量产5nm芯片,只不过工艺更复杂一些,成本更高一些。



要知道,越是先进制程的芯片,其就是逻辑面积变小,更小的面积中内置更多晶体管,使用DUV光刻机虽然有难度,只不过是工艺复杂、良品率会一些。


否则,厂商也不会在仅有DUV光刻机的情况下,就完成了7nm芯片的研发任务,还小范围内试产了N+1工艺的芯片。


其次,NIL工艺出现了。


NIL工艺的出现,让EUV光刻机可以说彻底掉下神坛,因为在NIL工艺之下,根本就不用使用EUV光刻机,依旧可以将芯片制程缩小至5nm。



据了解,NIL工艺是一种压印工艺,先刻上纳米电路图案,然后再将电路图案“压印”在晶圆上,就像盖章一样。

因为不需要使用类似EUV光刻机那样先进的镜头,所以成本低了很多。


根据佳能等发布的消息可知,使用NIL工艺量产的5nm芯片预计在2025年实现,相比EUV工艺而言,其成本降低90%,还能够节约大量的能源费用。


关键是,佳能等厂商有意在全球范围内推广NIL工艺,让这种工艺用于生产先进的储存芯片和非储存芯片。




最后,光电芯片也是好的解决方案


光电芯片完全不同于硅芯片,任正非都明确表示光电芯片技术可以完全绕开美芯技术,而华为在光电芯片领域内,已经布局十余年时间。


为了更好发展光电芯片技术,华为不仅计划在剑桥附近建设华为全球研发中心,主要研发光电芯片,还在博士招聘中,多次公开招聘相关技术人才。



另外,荷兰也宣布投资11亿欧元到光电芯片领域内,目的是想在下一代芯片技术方面保持领先,毕竟,其也想完全实现自由出货。


更何况,光电芯片的制造工艺不同于硅芯片,自然也就谈不上EUV光刻机了。所以才说别神化EUV光刻机,没它一样量产7nm芯片。对此,你们怎么看。



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