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没有EUV光刻机,也能生产5nm芯片?技术或在2025年量产
2022-07-27 来源:互联网乱侃秀
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关键词:光刻机晶体管佳能

用EUV光刻机生产7nm,5nm等高端芯片,是行业内的共识。因为芯片要实现百亿根晶体管的数量,必须使用EUV的极紫外光源,在13.5nm波长的作用下,完成复杂的光刻步骤。


但是日本光刻机巨头佳能公司展开新的探索,用一项NIL技术,进行15nm以下技术的研发。


用这项技术,能生产5nm芯片吗?如果可以,NIL技术能取代EUV光刻机吗?



佳能对高端芯片制造工艺的探索


提到芯片制造,就不得不说起ASML。这个总部位于荷兰的公司,是全球最大的光刻机制造商。而光刻机作为芯片制造的关键半导体设备,有着举足轻重的作用。


一颗芯片在制造过程中,需要通过光刻机完成光刻作业,在涂抹光刻胶的晶圆上,以类似照相机曝光的原理,把芯片线路图进行复刻。


如果没有光刻机,那么芯片将无法形成晶体管电路,更别说进行后续的步骤了。



世界上最顶级EUV光刻机出自ASML之手,这家公司每年能够生产四五十台的EUV光刻机,每一台都被早早预订,供不应求。


ASML EUV 光刻机采用极紫外光源,波长为13.5nm,是生产7nm及以下制程芯片的必要设备。但由于只有ASML能生产,其它国家如果无法采购EUV光刻机,那便失去了生产7nm,5nm等高端芯片的条件。



企业资金不足,没有足够的EUV光刻机产能,以及受规则限制等影响,都有可能导致买不到EUV光刻机。这促使很多光刻机厂商展开更多的研究,就像日本光刻机厂商对高端芯片制造技术进行了探索,计划用NIL技术实现高端芯片的量产。


NIL也叫做纳米压印微影技术,原理很简单,把芯片线路图提前印制在设备上,然后用“盖章”的方式把芯片线路印制在晶圆中。



佳能似乎已经掌握了15nm的NIL技术,预计在2025年实现5nm芯片的量产。


没有EUV光刻机,照样生产5nm芯片?相信这是很多人对佳能NIL技术设备的一种展望,当然,这是建立在一些理论的基础上。


从理论上来说,NIL技术的确有可能实现纳米级别的芯片印制,至于能否达到5nm,可能就需要等2025年才能进行实际验证了。不过佳能进行的这项技术探索有很大的前瞻性和创新意义。



传统芯片制造产业中,除了使用EUV光刻机之外,没有别的方式造出7nm,5nm等高端芯片。


这导致ASML占据中高端光刻机市场的垄断地位,而且EUV光刻机含有大量的美国技术。美国按照自己的心意,随意调整EUV光刻机的自由出货状态,让一些国家市场买不到货。


EUV光刻机对电力的消耗非常巨大,一台设备平均每天耗电量高达3万度。



相比DUV光刻机,EUV光刻机的耗电量增长了10倍。所以台积电大量购置EUV光刻机,对电力资源本身就是一种考验。而佳能的NIL技术设备,能耗大大降低,耗电量只有EUV光刻机的10%。


NIL技术能取代EUV光刻机吗?


EUV光刻机在半导体制造业的地位非常高,人类经历了二三十年的研究,上百家科研机构和各国顶级科技的加持,成功让ASML造出了EUV光刻机。


想要用另一种方式实现5nm芯片制造,先不说是如何做到的,如果是真的,佳能NIL技术能取代EUV光刻机吗?或许不太可能,NIL技术的出现最多只是一个补充,无法完全取代EUV光刻机。



原因很简单,因为等佳能利用NIL技术造出5nm芯片时,最快也是2025年的事情了。到时候ASML交付市场客户的EUV光刻机数量至少有四五百台左右。


这么多的EUV光刻机足以遍布芯片制造商的生产线,该买的EUV光刻机都买的差不多了。一旦生产线饱和,很难容纳新的设备进入。


而且新设备需要调试,需要大量的时间进行验证。一个是经过工程师准确调试,生产无误的EUV光刻机,另一个是不知产能,性能水准的新设备,芯片制造商会如何选择一目了然。



当然,作为补充的话,NIL设备的耗电量以及设备投资还是比较吸引人的。EUV光刻机太贵了,也不是所有国家都能买得到,因此NIL设备对一些无法采购到EUV光刻机的制造商来说,或许是一种解决方案。


写在最后


对于佳能这样一台设备,一旦成功量产,还能实现5nm芯片生产的话,有可能改变半导体制造业的格局。其官宣或在2025年量产可用于5nm芯片生产的设备,不过一切还需要静观其变,在此之前,国产也得继续努力。



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