中商情报网讯：光刻胶是电子领域微细图形加工的关键性材料，在半导体、LCD、PCB等行业的生产中具有重要作用。由于技术壁垒、认证壁垒较高，一直以来，我国光刻胶需求对外依赖度大。

近年来，光刻胶在半导体工业、PCB、平板显示等领域广泛应用，市场规模逐年增长。数据显示，我国光刻胶市场规模由2017年58.7亿元增至2020年84亿元，年均复合增长率为12.7%。中商产业研究院预测，2022年我国光刻胶市场规模可达98.6亿元。

数据来源：中商产业研究院整理

光刻胶产量

在国家一系列红利政策带动下，作为半导体、平板显示及PCB行业制造环节的关键材料，光刻胶的市场需求得到快速释放，尤其是LCD光刻胶产量增长。数据显示，我国光刻胶产量由2017年8万吨增至2020年13万吨。中商产业研究院预测，2022年我国光刻胶产量可达19万吨。

数据来源：中商产业研究院整理

光刻胶行业壁垒

1.客户认证及产品验证

由于光刻胶的品质会直接影响最终的芯片性能、良率等，试错成本极高，因此客户准入壁垒高，验证周期通常需要2-3年。此外，客户产品验证需要经过PRS、STR、MSTR、RELEASE四个阶段，耗时较长，成本高。

2.专利技术

光刻胶产品需要根据不同的应用需求定制，产品品类多，配方中原材料比重的细微差异将直接影响光刻胶的性能，且配方难以逆向解析，严重依赖于经验积累所形成的技术专利。

3.原材料

上游原材料是影响光刻胶品质的重要因素，目前我国光刻胶原材料市场基本被国外厂商垄断，尤其是树脂和感光剂高度依赖于进口，国产化率很低，由此增加了国内光刻胶生产成本以及供应链风险。

4.检测设备昂贵且市场垄断程度高

送样前，光刻胶生产商需要购置光刻机用于内部配方测试，根据验证结果调整配方。光刻机设备昂贵，数量有限且供应可能受国外限制，尤其是EUV光刻机目前全球只有ASML能批量供应。