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2022年中国ITO靶材市场容量及发展趋势预测分析(图)
2022-09-08 来源:中商产业研究院
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关键词:ITO靶材

中商情报网讯:氧化铟锡(IndiumTinOxide,简称“ITO”),它是一种由氧化铟和氧化锡粉末按照一定比例混合后,经过一系列的生产工艺加工成型,再高温烧结形成的黑灰色陶瓷半导体材料。ITO具有高的导电率、优异的可见光透过率、较强的机械硬度和良好的化学稳定性,主要应用领域有平面显示面板、太阳能电池、光学镀膜等。ITO靶材是溅射靶材中陶瓷靶材中陶瓷靶材的一种。


ITO靶材市场容量

中国已成为世界上最大的铟靶材需求国。2019年至2021年,我国ITO靶材市场容量从639吨增长到1002吨,年复合增长率为25.22%。根据中国光学光电子行业协会液晶分会分析,未来2-3年内,虽然国内平面显示行业的固定资产投资增速将有所放缓,但由于平面显示行业存量需求及太阳能光伏电池的增量需求,国内ITO靶材市场容量仍将保持一定幅度的增长。预计2022年能达到1067吨,2024年达到1207吨。

数据来源:中国光学光电子行业协会液晶分会、中商产业研究院整理


ITO靶材未来发展趋势

1.尺寸大型化

随着电视、PC等面板面积加速向大尺寸化迈进,相应的ITO玻璃基板也出现了明显的大型化的趋势,这使得对ITO靶材尺寸的要求越来越大。为满足大面积镀膜工艺要求,往往需使用多片或多节小尺寸靶材拼焊成大尺寸靶材,但焊缝的存在会导致靶材镀膜质量的下降。因此,研发大尺寸单片(单节)靶材,减少焊缝数量成为ITO靶材技术发展趋势。


2.高密度化

提高靶材的密度有助于减少毒化现象,并降低电阻率,提高靶材的使用寿命。毒化是指溅射过程中ITO靶材表面出现凸起物的结瘤现象,毒化会导致靶材溅射速率降低,弧光放电频率增加,所制备的薄膜电阻增加,透光率降低且均匀性变差,此时必须停止溅射,清理靶材表面或更换靶材。高密度ITO靶材具有较好的热传导性和较小的界面电阻,不易在溅射过程中发生热量蓄积,可减少毒化概率。


3.利用率提高

提高靶材利用率一直是靶材制备行业研究的热点和难点。在溅射过程中,ITO平面靶材表面会形成环形磁场,并在环形表面进行刻蚀,这使得环形区域的中心部分无法被溅射,导致平面靶材的利用率较低,目前ITO平面靶材的靶坏利用率一般不超过40%。ITO旋转靶材相较平面靶材在利用率上有较大提升,旋转靶材围绕固定的条状磁铁组件进行旋转,使得整个靶面都可以被均匀刻蚀,提高了靶材的利用率,目前ITO旋转靶材的靶坏利用率可达70%以上。提高ITO靶材利用率有助于提高生产效率,降低生产成本。



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