中商情报网讯：氧化铟锡（IndiumTinOxide，简称“ITO”），它是一种由氧化铟和氧化锡粉末按照一定比例混合后，经过一系列的生产工艺加工成型，再高温烧结形成的黑灰色陶瓷半导体材料。ITO具有高的导电率、优异的可见光透过率、较强的机械硬度和良好的化学稳定性，主要应用领域有平面显示面板、太阳能电池、光学镀膜等。ITO靶材是溅射靶材中陶瓷靶材中陶瓷靶材的一种。

ITO靶材市场容量

中国已成为世界上最大的铟靶材需求国。2019年至2021年，我国ITO靶材市场容量从639吨增长到1002吨，年复合增长率为25.22%。根据中国光学光电子行业协会液晶分会分析，未来2-3年内，虽然国内平面显示行业的固定资产投资增速将有所放缓，但由于平面显示行业存量需求及太阳能光伏电池的增量需求，国内ITO靶材市场容量仍将保持一定幅度的增长。预计2022年能达到1067吨，2024年达到1207吨。

数据来源：中国光学光电子行业协会液晶分会、中商产业研究院整理

ITO靶材未来发展趋势

1.尺寸大型化

随着电视、PC等面板面积加速向大尺寸化迈进，相应的ITO玻璃基板也出现了明显的大型化的趋势，这使得对ITO靶材尺寸的要求越来越大。为满足大面积镀膜工艺要求，往往需使用多片或多节小尺寸靶材拼焊成大尺寸靶材，但焊缝的存在会导致靶材镀膜质量的下降。因此，研发大尺寸单片（单节）靶材，减少焊缝数量成为ITO靶材技术发展趋势。

2.高密度化

提高靶材的密度有助于减少毒化现象，并降低电阻率，提高靶材的使用寿命。毒化是指溅射过程中ITO靶材表面出现凸起物的结瘤现象，毒化会导致靶材溅射速率降低，弧光放电频率增加，所制备的薄膜电阻增加，透光率降低且均匀性变差，此时必须停止溅射，清理靶材表面或更换靶材。高密度ITO靶材具有较好的热传导性和较小的界面电阻，不易在溅射过程中发生热量蓄积，可减少毒化概率。

3.利用率提高

提高靶材利用率一直是靶材制备行业研究的热点和难点。在溅射过程中，ITO平面靶材表面会形成环形磁场，并在环形表面进行刻蚀，这使得环形区域的中心部分无法被溅射，导致平面靶材的利用率较低，目前ITO平面靶材的靶坏利用率一般不超过40%。ITO旋转靶材相较平面靶材在利用率上有较大提升，旋转靶材围绕固定的条状磁铁组件进行旋转，使得整个靶面都可以被均匀刻蚀，提高了靶材的利用率，目前ITO旋转靶材的靶坏利用率可达70%以上。提高ITO靶材利用率有助于提高生产效率，降低生产成本。