最新消息，ASMLQ4 预测净销售额64亿欧元，毛利率49%，相比三季度，毛利率略有下滑。

CINNO Research日前发布了2022年第三季度全球上市公司半导体设备制造商业务营收排名，其中排名前十位企业营收合计达275亿美元，约合人民币1983亿元，同比增长 8.6%，环比增长 14.9%。

其中，排名第一的是美国应用材料公司（AMAT），2022 年第三季度营收近64亿美元，约合人民币461.亿元；排名第二位的是荷兰光刻机巨头阿斯麦公司（ASML）；排名第三位的是美国泛林公司（LAM）；排名第四位的是日本东电电子公司（TEL）。CINNO Research表示，这前四大公司的半导体业务2022年前三季度的营收合计均已超过125亿美元约合人民币901亿元，并且2022 年第三季度单季营收均为今年最高季度营收。

ASML市场占有率84%

三季度，ASML共售出86台光刻机，在中国市场的收入占比达15%。

ASML执行副总裁兼首席财务官（CFO）罗杰·达森（Roger Dassen）表示，尽管不能对华出口最先进的设备，可能会对公司工具需求产生间接影响，但其仍能向中国大陆制造商提供非EUV光刻工具。

光刻机单机价值量高，每年出货数量约 300~400 台，其中 EUV 的供应比较有限。根据ASML、Nikon、Canon 三家光刻机财报数据统计，近两年全球光刻机每年出货量大约在300~400 台之间，整体均价约0.3亿美元。其中主要产品是KrF约90~100台，ArFi约90~100台。近几年EUV出货量在 逐步增长，全球仅有ASML具备供应能力，每年出货30~50台，均价超过1亿美元。

ASML主导全球光刻机市场。从光刻机格局来看，2020年ASML占据全球 光刻机市场84%的市场空间，Nikon约7%，Canon约5%。ASML具有高度的垄断地位，并且由于EUV 跨越式的升级进步，ASML在技术上的领先性更加明显。

全球光刻机龙头ASML，高研发、高利润率。ASML在2020年营业收140亿美元，其中 75%的收入来自于销售设备，25%的收入来自于服务。综合毛利率52%，营业利润率35%，净利率32%。全年平均ROE约27%。

ASML：一家美国公司？

在ASML发展壮大过程中英特尔投了41亿美元，拿下15%的股份，一度是最大股东，而台积电投了14亿美元占5%，而三星投了8亿欧元占3%。而剩余的77%就是ASMI，以及其它投资者一共拿走了。

但后来EUV光刻机研发出来后，ASML股价大涨，于是intel、三星、台积电又大量卖出ASML的股票，目前英特尔的股份已低于3%，而三星、台积电甚至低于1%了。

从现在公开的数据来看，ASML第一大股东是Capital Research and Management Company（美国资本国际集团），拥有15.81%的股份。第二大股东是BlackRock Inc.（美国的黑岩集团），拥有7.95%的股份。第三大股东是Baillie Gifford（英国柏基投资），拥有4.54%的股份。

其它的股权都非常分散，持股机构高达1000多家，都是低于3%的一些小机构、小股东持股，所以总体来看，ASML是受美国资本控制的。

这也是为何ASML明明是一家荷兰企业，却总是听命美国的原因，ASML生产的EUV光刻机，一般也是优先供应给intel、台积电、三星这三家厂商。所以光刻机国产化十分急迫。

国产光刻机迎来黄金时刻

值得欣慰的是，上海微 90nm 光刻机项目已经正式通过验收。上海微在 2002 年成立。2006 年公司光刻机产品注册商标获得国家工商局批准。2013 年国产首台用于 2.5 代 AM-OLED TFT 电路制造的光刻机成功交付用户。2016 年，首台暨国内首台前道扫描光刻机交付用户。2018 年90nm 光刻机项目通过正式验收。

SSX600 系列步进扫描投影光刻机采用四倍缩小倍率的投影物镜、工艺自适应调焦调平 技术，以及高速高精的自减振六自由度工件台掩模台技术，可满足 IC 前道制造 90nm、 110nm、280nm 关键层和非关键层的光刻工艺需求。该设备可用于 8 寸线或 12 寸线的大规模工业生产。

我国上海微电子生产的90nm的光刻机，可以用来做电源管理芯片、LCD驱动芯片、WiFI芯片、射频芯片、各类数模混合电路等。90nm工艺的芯片完全可以满足国民生产需求。芯片有几十万种，可以说70%的都是中低端光刻机生产的。

此外，90nm光刻机经过两次曝光，可以得到45nm的芯片，三次曝光最高可以达到22nm的水平。

上海微电子生产的光刻机中的大部分零件都是通过全国采购所得，而自身专注于提升 核心技术、满足顾客需求。高度外包使得上海微电子可以有充足的资金用于提升光刻机的核心技术，创造巨大的技术壁垒。通过零件外包，将大部分物力、人力布局于光刻机核心技术的研发，利于充分利用有限的资源速取得技术突破。

图：来源于方正证券

不仅仅是上海微电子在发力光刻机，最近华为公布了一项与EUV光刻机相关的专利，能够提升光刻机的精度以及良品率。

据介绍，华为的这项专利发明的核心内容，是提供了一种反射镜、光刻装置及其控制方法，能够解决相干光icon因形成固定的干涉图样而无法匀光的问题，而且，华为研制的光刻设备可以在不改变光刻设备与基板的相对位置的情况下制备所需的图案，从而避免了平移步骤和对准步骤，从而提高了处理效率以及在基板上的形成。

靠山山倒，靠人人跑，只有自己最可靠。核心工艺和装备只有掌握在我们自己手中，才能避免受制于人。路漫漫其修远兮，我国要想在光刻机领域实现完全自主国产化，还有很长的路要走。