中商情报网讯：光刻胶又称光致抗蚀剂，本质是一种感光材料，是电子领域微细图形加工的关键性材料，在半导体、LCD、PCB等行业的生产中具有重要作用。近年来，随着集成电路的快速发展，光刻胶行业景气度不断提高。

市场结构

按照下游应用，光刻胶可分为半导体光刻胶、面板光刻胶、PCB光刻胶，其中，半导体光刻胶主要应用于半导体元器件制作中，市场占比22%。

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市场分布

按曝光波长分，半导体光刻胶按照曝光波长不同可分为g线（436nm）、i线（365nm）、KrF（248nm）、ArF（193nm）以及新兴起的EUV光刻胶5大类，高端光刻胶指KrF、ArF和EUV光刻胶。数据显示，2021年ArFi+ArF光刻胶占全球光刻胶市场规模的比例为48.1%，KrF占比34.7%，G/I线占14.7%。

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竞争格局

从竞争格局来看，日本企业在半导体光刻胶市场占据主导地位，东京应化渣比最高达25%。其次，JSR、日本信越、住友化学占比分别为17%、16%、11%，Dow占比9%。

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