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2023年全球半导体光刻胶市场数据预测分析:ArF光刻胶市场广阔(图)
2022-12-19 来源:中商产业研究院
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关键词:半导体光刻胶

中商情报网讯:光刻胶又称光致抗蚀剂,本质是一种感光材料,是电子领域微细图形加工的关键性材料,在半导体、LCD、PCB等行业的生产中具有重要作用。近年来,随着集成电路的快速发展,光刻胶行业景气度不断提高。


市场结构

按照下游应用,光刻胶可分为半导体光刻胶、面板光刻胶、PCB光刻胶,其中,半导体光刻胶主要应用于半导体元器件制作中,市场占比22%。

数据来源:Reportlinker、中商产业研究院整理


市场分布

按曝光波长分,半导体光刻胶按照曝光波长不同可分为g线(436nm)、i线(365nm)、KrF(248nm)、ArF(193nm)以及新兴起的EUV光刻胶5大类,高端光刻胶指KrF、ArF和EUV光刻胶。数据显示,2021年ArFi+ArF光刻胶占全球光刻胶市场规模的比例为48.1%,KrF占比34.7%,G/I线占14.7%。

数据来源:TECHCET、中商产业研究院整理


竞争格局

从竞争格局来看,日本企业在半导体光刻胶市场占据主导地位,东京应化渣比最高达25%。其次,JSR、日本信越、住友化学占比分别为17%、16%、11%,Dow占比9%。

数据来源:Reportlinker、中商产业研究院整理



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