而据媒体的报道称，日本政府将在今年春季实施出口管制，以阻止先进半导体技术被用于军事用途，虽然没说针对中国，但谁都看得出来，就是针对中国。

事实上，美国之所以联合上日本，最担心的事情就是日本卖光刻机给中国，那中国的芯片工艺，可以达到5nm。

为何这么说？因为日本尼康的光刻机，其光刻分辨率目前确实能够达到5nm，也是ASML之后，全球第二家拥有浸润式光刻机的厂商。

目前光刻机已经发展到第五代了，也就是EUV光刻机，而在EUV之前，还有g-line、i-line、Krf、ArF。

至于g-line、i-line比较落后了，用于um级芯片的制造，很多厂商都有，就不多说了。

而像KrF、ArF也有一个说法，就是DUV光刻机，这里又分为干式光刻机、湿式光刻机（也称浸润式光刻机）。

其中浸润式光刻机，是采用193nm波长的光源，但是光刻时的介质为水，所以193nm光源，等效于143nm，所以这种光刻机，是能够制造7nm芯片的，甚至极限使用下，能达到5nm。目前除了ASML外，尼康也能够制造。

与ASML不同，尼康的光刻机，是采用的日本本土的技术，没有合作美国的技术或设备，所以不受美国长臂管辖，如果日本愿意，是可以出售这样的光刻机给中国的。

另外佳能在研发的NIL光刻机（纳米压印技术），据说也有望达到5nm精度，虽然还没有研发出来，但路线已确定，最近两到三年有望实现。

所以美国很担心这件事情的发生，一旦中国买到了这些光刻机，那就卡不住脖子了，所以就找上了日本，希望日本政府出面，禁售这些光刻机。

对日本而言，美国是大哥啊，大哥的话必须得听，所以自然就听话，尼康、佳能的先进光刻机，自然就不能卖给中国了。

但对于日本厂商而言，光刻机如果缺少了中国市场的支持，很难重新崛起，所以这个决定不好下，未来变数还很大。