前段时间，ASML的CEO 彼得?温宁克（Peter Wennink ）接受采访时表示：“美国主导的针对中国的半导体出口管制措施，最终会促使中国在高端芯片制造设备领域成功研发出自己的技术”。

他还说：“如果无法得到这些机器，他们就会自己研发。这需要时间，但最终他们会实现目标”。

ASML当然想和中国做生意，想把自己的光刻机卖给中国，他是生意人，以追求利益为目的，美国的事关他什么事？

所以他有了这个预言，其实意思就是美国要制裁，只怕最后会制裁个寂寞，反而会促进中国奋发图强，最终实现了独立自主，反而ASML会成为受害者，卖不出光刻机了。

当时很多网友看到这则报道后表示，借彼得?温宁克吉言，希望我们能够早日研发出自己的光刻机出来，然后中国芯用中国产光刻机，不再从ASML买，让美国傻眼，意愿落后。

果然，近日有了新消息，中国芯开始使用中国产光刻机，不再从ASML买了，ASML CEO的预言很快就应验了。

上海微电子以每台1800万元的价格，卖了2台给昆山同兴达，用于芯片封测使用，而同兴达搞了个隆重的仪式，庆祝首台光刻机入厂。

而这也是上海微电子生产的首台2．5D／3D先进封装光刻机顺利交付并正式投入使用。按照媒体的说法，这台2．5D／3D先进封装光刻机，是所有竞品中的“佼佼者”。

上海微电子更是称其——“代表了行业同类产品的最高水平”，可见，这可不是落后产品，是全球领先的产品，很明显，这是自研光刻机领域的一大进步。

当然，如果关注光刻机的人，会看到我特意提到，这台光刻机是一台封装光刻机，属于后道光刻机的一种，用于芯片封测。

而我们经常提的DUV、EUV光刻机，是属于前道光刻机，是用于芯片制造的，这两种光刻机有一点不一样，前道光刻机更难，而后道光刻机相对容易。

美国对我们进行打压的，其实主要也是用于芯片制造的前道光刻机，比如浸润式光刻机，EUV光刻机等，至于后道光刻机，美国并不是那么在意，芯片封装技术，美国不卡我们。

不过，任何技术都是从易到难，要想研发出最高级的产品，得先从低端的做起，把欠下的功课补上来，把基础打牢了才行。

后道光刻机就是属于基础之一，把这一块打牢了，从源头开始努力，未来我们在前道光刻机上才能突破，彻底追上ASML。

现在我们不买ASML的后道光刻机，接着就会不买ASML的前道光刻机，这只是一个开始……