国产28纳米光刻机一直备受关注，因为这代表着浸润式先进光刻机能否量产的问题，近日有国产手机即将发布的新款手机了14纳米芯片，或许就代表着浸润式光刻机真正量产并已投入使用。

一、国产14纳米芯片的意义

由于众所周知的原因，国内芯片制造企业采用ASML的14纳米光刻机以及进口光刻胶等材料是不能为该企业代工生产芯片的，如今它的14纳米芯片被用在手机上，就意味着至少28纳米光刻机以及光刻胶等材料都已经实现了国产化。

国内早就盛传国产28纳米光刻机已通过了技术验证，这么长时间过去，没有新的消息，或许就是在推进量产，该国产14纳米芯片的推出应该就代表着该款国产28纳米光刻机已投入生产。

28纳米光刻机的量产，对于国产先进光刻机具有重要的指标意义，因为在28纳米及以下的光刻机都需要用到浸润式光刻技术，有了浸润式光刻技术，再量产14纳米浸润式光刻机就不会有太大问题，28纳米光刻机、14纳米光刻机都是采用相同的光源，技术原理大都相通。

28纳米光刻机的量产代表的另一重意义则是国产光刻机产业链已经完善，由于众所周知的原因中国如今不仅无法进口14纳米以下的光刻机，连先进光刻机的相关元件都无法进口，这迫使中国自行完善光刻机产业链，这也是国产光刻机需要如此长时间才能量产的原因。

此前国产芯片八大制造环节，诸多环节都已突破到14纳米，刻蚀机、封装技术更是已进展到5纳米，如今先进光刻机的量产，整条芯片制造产业链终于打通，中国的芯片制造将不再受制于人。

二、国产7纳米有了希望

量产28纳米光刻机，对于国产当前需求迫切的7纳米工艺来说，可以打开了全新的局面。7纳米工艺并非必须有EUV光刻机才能量产，台积电最早的7纳米工艺就是以14纳米浸润式光刻机实现的，只不过14纳米光刻机量产的7纳米工艺性能不够强、成本高了一些罢了。

国内的光刻机突破到28纳米工艺，解决了关键的浸润式技术，那么14纳米光刻机已为时不远，这与此前相关专家强调只要两三年时间中国就能生产先进的14纳米光刻机相对应，可能当时这些专家就已得到相关的消息，才如此表态。

光刻机巨头ASML也曾表示即使将光刻机图纸交给中国，中国也无法生产先进的14纳米光刻机，但是后来却很快改口，认为中国能迟早生产出先进光刻机，作为行业巨头有更畅通的信息获取方式，它应该也是从一些信息得出中国在先进光刻机方面取得了技术进展。

14纳米已能满足国内芯片七成的需求，7纳米则能满足国内九成的芯片需求，国产先进光刻机的快速进展，显然出乎美国的意料。正如美国富豪比尔盖茨所言，美国限制不了中国发展先进芯片技术，如今这一切都印证了比尔盖茨的预言。

这几年中国芯片的进展相当迅速，芯片日产能突破10亿颗，芯片自给率提升至三成以上，这是在现有主要以28纳米工艺为主的情况下取得了，更先进工艺的进展，将推动国产芯片的自给率进一步提升，如此预计2025年实现七成芯片自给率的目标已有了实现的希望。

在现有技术的基础上，中国对海外芯片的需求就在快速下滑，2022年中国芯片进口量减少了15%，今年前两个月中国的芯片进口量更是减少了26.5%，国产芯片替代加快已给美国芯片造成了巨大打击，美国芯片或是出现亏损，或是陷入衰退，接下来它们必然将承受中国芯片更大的打击。