美国的目标非常明确，那就是锁死中国大陆18纳米以下DRAM内存的生产设备，128层以上NAND闪存生产设备，以及14纳米以下逻辑芯片的生产设备。

而为了达到这个目标，今年美国更是牵手了荷兰、日本，因为日本、荷兰也有很多半导体设备巨头，特别是荷兰有ASML，日本有尼康这两大光刻机巨头。

所以我们看到，前段时间ASML表示，浸润式光刻机中，TWINSCAN NXT：2000i及之后的浸没式光刻系统，已经卖给中国了，只有TWINSCAN NXT：2000i之前的光刻机不受影响。

所以一时之间，网友们都非常担心，觉得我们芯片产业最重要的可能就是卡在光刻机上面了，因为国产的才90nm精度，而浸润式光刻机也受限，那么我们可能很长一段时间，因为光刻机的原因要卡在14nm了，除非国产光刻机有突破。

说真的，关于光刻机，其实大家不必太过于担心，不说国产光刻机突破，仅目前能够买到的这一台光刻机，就能够支撑到7nm。

如下图所示，这是目前ASML三种浸润式光刻机的详细介绍，里面有具体提到支持的工艺制程。

而TWINSCAN NXT：1980Di是我们能够买到的，明确指出可以用于10nm以下节点的批量生产，不说5nm，7nm是没问题的。

事实上，从砂子变成芯片，中间需要几十种材料，几百种设备，几千道工序，光刻机只是其中最为核心的设备之一，但并不是说拥有了先进光刻机，就等同于掌握了先进工艺。

如果你搞定7nm芯片，需要其它所有的设备、材料都达到先进的7nm工艺，还需要自己的芯片制造技术，也达到7nm工艺，并不是只有7nm光刻机就行的。

而我们对外依赖的并不仅仅只有7nm光刻机，还有众多的材料、设备，比如光刻胶等等，所以别只把目光盯在光刻机上，我们要补的课还非常多，别想一口吃成胖子，慢慢来。