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ASML能卖给中国的浸润式光刻机,分辨率38nm,能生产7nm芯片?
2023-04-21 来源: 只谈数码科技
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关键词:中芯国际台积电芯片

众所周知,目前用于芯片制造的前道光刻机,从最开始的G线光刻机,发展到现在的EUV,已经有了6代,EUV就是第6代。

而在这之前有5代,分别对应不同的工艺。其中DUV光刻机中又包含了三代,分别是KrF、ArF、ArFi三种。

如下图的所示,这是6代光刻机,其光源波长,以及支持的最小芯片制造情况。

目前国内能够制造的是ArF光刻机,也称之为干式光刻机,采用193nm波长的光源,最高可以用于65nm的芯片制造。

而ArFi光刻机,也称之为浸润式光刻机,采用水为介质,193nm波长的光源,经过一层水后,等效为134nm波长的光源,可以用于7nm的芯片制造。

目前能够生产EUV光刻机的厂商就一家,那就是ASML。而能够生产ArFi光刻机的厂商,全球就两家,一家是ASML,一家是尼康。

目前ASML在售的浸没式光刻机主要有三大型号:NXT:2050i、NXT:2000i 和NXT:1980Di。

而ASML前段时间有公告称,NXT:2000i及之后的浸没式光刻系统将会受到出口限制。这也意味着,NXT:1980Di 仍将可以出口。

NXT:1980Di的分辨率在38nm左右,每小时的生产晶圆数量为275wph。


那么这台光刻机,能支撑到什么工艺制程,就是38nm了么?其实并不是的,38nm是指一重曝光。而通过多重曝光,依然可以支持到7nm左右。

按照媒体的报道称,台积电的第一代7nm工艺就是基于 NXT:1980Di 实现的,后来才升级为EUV 7nm工艺。

只不过多重曝光后,步骤更为复杂,成本更高,良率可能也会有损失,但实现7nm是没有问题的。

不过大家要注意的是,芯片制造涉及到几十上百种材料,几百种设备,几千道工序,还有各种技术、软件等等。

光刻机只是其中关键之一,拥有EUV光刻机,或者说拥有支持7nm工艺的光刻机,并不代表就能够实现7nm工艺,还需要各种设备、技术、软件、材料都达到7nm才行,任何环节缺一不可。

所以就算拥有能生产7nm工艺芯片的光刻机,我们也未必能够制造出7nm芯片,这个大家要清楚,别具盯着光刻机一项。



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