提到芯片制造，很多人都会第一时间想到光刻机，特别是EUV光刻机，毕竟全球只有荷兰ASML一家公司能生产，美国自己也无法生产。

在这些人的观念里，光刻机就好像是飞机、军舰中的发动机一样，只要没有ASML的光刻机甚至EUV光刻机，就没法制造半导体芯片一样。

不仅是国内的网友这么认为，唯光刻机论在海外也很有市场，似乎大部分网友都是这样想的，已经到了神化ASML的地步了，只要提到芯片制造就会强调光刻机会卡脖子，而有了光刻机，台积电这样的公司就能随便复制一样。

但在业内人士来看，这种观念显然是不合理的，专业半导体网站的专家dylan522p解释说，以成本来算，ASML的光刻机只占了半导体制造的20%，他们甚至不是业界最大的装备公司，AMAT应用材料才是。

哪怕是EUV光刻机，它也不（直接）制造出芯片，而是曝光了光刻胶并图案化，芯片是其他设备制造的，比如沉积、蚀刻、清洁、抛光、外延及离子注入等环节。

当然，他这个说法也有不少人不认同，不过大体上来说没错，在不同的制造中光刻机的占比不同，越是先进的工艺中EUV光刻机越重要，成本占比也会远超20%，因为要用光刻机多重曝光。

如果是内存或者闪存芯片制造，可能比光刻机更重要的是极高深宽比的蚀刻机，在这方面美国应用材料、KLA等公司要比ASML更卡脖子。

好消息是，国内的公司在蚀刻机这方面的进展比光刻机还要迅速，已经有不少重要突破了。

软的方面，EDA电子设计自动化被称为芯片之母，是芯片设计及制造不可少的关键工具，前不久华为宣布已经攻克了14nm以上工艺的EDA工具，实现了国产化，但在这个领域，美国几家公司在全球是垄断性领先。

在台积电的技术论坛会议上，美国新思科技（Synopsys）也宣布跟台积电达成了合作，在后者的N2工艺上实现了数字及定制设计EDA流程，率先进入了2nm时代。

新思提到，与N3工艺相比，台积电的2nm工艺在相同功率下可提升15%的性能，相同速度下可降低30%的功耗，同时还提高了芯片密度。

新思科技新一代EDA投入了大量资源，可以让芯片设计人员快速启动2nm芯片设计，不仅为芯片带来差异化，同时还能缩短芯片上市时间。

台积电的2nm工艺要到2025年才能量产，提前准备好EDA工具有助于客户快速导入2nm芯片设计，新思与台积电的合作也是台积电每次都率先量产新工艺并获得大量客户的关键之一。

另外，在2023年中国品牌博览会上，景嘉微携自研的国产GPU芯片亮相，包括JM54系列、JM72系列、JM92系列三代GPU产品。

据介绍，JM5400是国内首款自主研发的嵌入式GPU芯片，采用自主架构设计，可适配国产CPU和国产嵌入式操作系统，适用于有高可靠要求的图形生成及显示等领域，满足复杂环境下图形系统的功能与性能要求。

JM5400于2018年荣获湖南省科技进步一等奖。

JM72系列是国内首款自主自研的桌面级GPU芯片，支持4K超高清显示，可提供多种丰富的外设接口，全面支持国产CPU和国产操作系统，适用于桌面办公、图形工作站及有高要求的图形生成及显示等领域，目前JM72系列GPU已在国内众多领域实现规模应用，为国产计算机的创新发展提供技术保障。

JM92系列是景嘉微自主研发的第三代高性能GPU芯片，采用新一代架构设计，全面支持国产CPU、国产操作系统和国产固件，可广泛应用于PC、服务器、图形工作站等计算机设备，满足地理信息系统、三维测绘、三维制图、媒体处理、辅助设计、显示渲染等高性能显示需求。

现场还展示了基于JM91系列GPU的新一代全国产笔记本电脑，JM91系列是景嘉微推出的第三代具有完全自主知识产权的GPU，在前两代的基础上进一步优化性能与功耗，最低功耗不到2W。

全面支持国产CPU、国产操作系统和国产固件，可广泛应用于PC、笔记本电脑、工控机、图形工作站等计算机设备。该款电脑所搭载的GPU、CPU、存储器、操作系统等核心软硬件产品均为全国产，可轻松满足影音娱乐与日常办公需求。

搭载JM9100GPU的新一代全国产笔记本电脑凭借其轻薄时尚的外观设计、高效的性能配置、细腻的色彩显示以及流畅的操作系统吸引了现场众多观众的了解体验。