众所周知，前几天日本的半导体禁令，正式出炉了，7月23日起开始实施。

一共是23种半导体设备被列入了限制出口清单，当然并不是说不能出口了，而是被列入清单的这些设备，除了42个友好国家和地区外。不管出口到哪一个国家和地区，都需要日本政府的许可证。

日本表示，这不是故意针对哪一个国家，但明眼人都清楚，日本就是听美国的话，针对的就是中国。

并且，让人气愤的是，日本人在搞针对这事上，太认真了，比美国、荷兰的禁令还更详细。

美国只是提出一个目标，14nm以下逻辑制程，18nm以下DRAM内存，128层以上NAND闪存的设备禁止出口给中国。但是很多设备其实是不分14nm，还是28nm的，那么这些设备，美国也是睁一只眼，闭一只眼，只是关键设备不行。

而荷兰的ASML，也只说目前在售的浸润式光刻机中，NXT:2000i及之后的浸没式光刻系统将会受到出口限制，但其中像NXT:1980Di 仍将可以出口，而这台光刻机，用的好，可以实现7nm工艺的。

但日本的禁令却不同了，一字一句，抠的非常细，比美国、荷兰的禁令还要详细，并且针对性极强。

就拿光刻机来说，日本的限制里面，写着“光源波长为193纳米以上、且光源波长乘以0.35再除以数值孔径得到的数值为45及以下”的光刻机。

这句话的意思是什么呢？意思就是浸润式光刻机是被禁的，因为浸润式光刻机，虽然使用的是193nm的光源，但CD小于45nm，那么就属于管制范围。浸润式光刻机，是用于45-7nm工艺的，日本一把全禁了，管你呢。

类似的还是热处理设备，干法清洗，湿法清洗设备等，如果大家认真去看看日本这23项设备的详细描述清单，会发现日本在禁令这一块，真的太细了。

并且非常有针对性，各种设备，只要有可能可以用到先进制程的，就禁了再说，至于他有可能也会用在成熟工艺上，那不管了，只要有关先进制程，就先把你卡死再说。

这或许就是网友们“赞扬”的“日本工匠”精神吧，每个细节都抠死你，绝不放过任何一个有可能会被疏忽掉的地方。