据悉，在高端光刻胶领域，日本占据了全球市场的75%，掌握了高端光刻胶的绝对话语权。反观国内的高端光刻胶市场份额就比较寒酸，让人有些难过。以ArF光刻胶为例，这种光刻胶用于14nm至130nm的芯片、光刻机上，但我国仍需要从日企购买ArF光刻胶。
国产光刻胶虚有其表？
近年来，中国在科技领域取得了长足的进步，其中光刻胶技术的突破令人瞩目。光刻胶是半导体制造过程中不可或缺的关键材料，其自给率一直以来都相对较低，依赖进口。然而，最近的数据显示，国产光刻胶的自给率突破了1%，这意味着中国在这一领域取得了重大突破。
令人费解的是，尽管国产ArF光刻胶取得了初步成果，一些使用国产光刻胶的企业和研究机构开始报告一些异常情况。他们发现，使用国产光刻胶制造的芯片在性能和稳定性方面出现了一些问题。
有专家指出，国产光刻胶自给率的突破是一个重要的里程碑，但在技术上仍然存在一些挑战。光刻胶的制备过程非常复杂，需要严格控制各种参数，以确保其质量和性能。然而，国内生产的光刻胶在这方面可能还存在一些问题，导致了性能和稳定性的下降。
另外，一些人认为，国产光刻胶自给率突破1%后，市场需求的迅速增长可能也是问题的一个因素。由于国内供应的增加，一些企业可能面临着生产规模扩大的压力，导致生产过程中的一些问题没有得到充分解决。这可能导致了一些芯片的质量问题。不过，也有人持不同观点。他们认为，这个奇怪的现象可能只是一个暂时的现象，随着国产光刻胶技术的进一步发展和完善，这些问题将会逐渐解决。他们相信，国产光刻胶的自给率突破1%只是一个起点，未来将会有更多的突破和进步。
无论是技术问题还是市场需求的压力，我们都应该以冷静和理性的态度面对，并积极寻求解决方案。相信中国的光刻胶技术将迎来更加辉煌的未来。
高端EUV光刻机领域进展依然为零
虽然在高端光刻胶领域，我国已经实现了1%自给率的突破，但在高端EUV光刻机领域，我们的进展依然为零。其实这两者并没有必然的冲突关系。
首先，ArF光刻胶仅仅是光刻胶中的一种类型，覆盖范围为28nm至90nm，而EUV光刻胶则用于更高精度的7nm光刻工艺。其次，南大光电研发的ArF光刻胶尚处于实验阶段，距离实际应用和量产仍有相当的差距。再者，国产光刻胶目前尚无法满足高端光刻机对材料的严格要求。最后，光刻机的研发涉及成千上万个零部件，仅凭光刻胶这一项技术的突破是远远不够的，需要光刻胶等众多技术的整体突破。
综上所述，南大光电的ArF光刻胶技术进展虽然标志着国产光刻胶自给率突破1%的里程碑，但离真正成为国产光刻机的决定性技术还有很长的路要走。
高科技产品的研发需要各种技术的突破和融合，不能仅依靠单一技术的进步。每当国产光刻胶取得某项进展时，网友们总是忍不住热情赞扬。然而，相较于过分的热情，保持理性的分析和支持对国产芯片光刻机研发的成功更为有益。
自从华为遭受老美打压后，国人对国产光刻机、国产芯片的发展极为关注。但凡光刻机、芯片的某项技术实现突破，网络上就掀起了一股‘厉害了’‘碾压其他公司’的言论。一旦这些技术无法改变国产光刻机、国产芯片的处境，那么网络上就对这些技术嗤之以鼻，甚至是责骂。任何尖端设备的研发成功是数以万计技术的突破，靠一项、十几项技术突破无法改变现状。所以网友们还是少一点自大，多一点低调，唯有如此，我们才能营造良好科研环境。
我们更应该关注国产芯片光刻机领域的各项技术进展，鼓励创新，助力整个产业链的发展。只有在各项技术不断突破、整体实力不断提升的基础上，国产光刻机才能迈出坚实的步伐，为中国的芯片产业发展贡献力量。让我们一起为国产芯片光刻机的研发加油，期待更多的突破和成功！
漂亮国进一步制裁中企
因为美国的各种制裁打压，中国近几年对半导体产业的重视度也提升了许多，过去我们只进口芯片，但现在各种国产芯片的诞生，已经彻底颠覆了以往的认知。
但在这样的背景下，美国又试图进一步制裁中企，通过掐断半导体设备的方式打压中国半导体产业的发展，而且这次打压对中企来说，损失也是蛮大的。要知道当前我国正处于芯片制造布局的关键阶段，所以需要大批半导体设备支持发展，但就在此时，荷兰又因为美国的要求而正式宣布了，要对DUV光刻机进行更为严厉的制裁。据媒体报道，6月底荷兰方面正式宣布，针对先进半导体设备出口的新规，要求相关企业在出口先进产品前必须获得许可证，虽然荷兰政府并未点名，但基本可以确定就是ASML。
ASML作为全球芯片光刻技术的佼佼者，生产的DUV和EUV是制造高端芯片必不可少的设备。在此之前，只有EUV光刻机出口需要获得许可，但随着新规修改，ASML最先进的DUV光刻机TWINSCAN NXT:2000i及后续推出的浸润式光刻系统都要获得出口许可了。如果该新规全面落实下来，那么ASML在中国大陆市场基本崩盘了，对于这家荷兰光刻机巨头来说，也必然是沉重打击。
原因很简单，因为ASML在2022年销售的345台光刻机中，有14%都是销往中国大陆的，中国大陆市场也成为了仅次于中国台湾和韩国的第三大光刻机市场。更关键的是，中国大陆正在大力发展半导体产业，所以未来对光刻机的需求量还会大幅提升，一旦ASML失去了这个市场，也等于就是失去了未来的增长机会。
所以针对荷兰政府的突然制裁，ASML方面是强烈抗议的，但一个企业再大也大不过政府，在美国的怂恿下，荷兰政府做出如此害人害己的决定，一定会为此付出巨大代价。
可喜的是：数据显示，今年前五个月我国进口芯片的数量为1865亿颗，这一数据相比上一年同期的2320亿颗减少了455亿颗，同比下降了19.6%，芯片进口数量的减少，说明国内半导体厂商正在抢占市场。具体来说，二极管及类似半导体器件进口 2156.3 亿个，下降 34.4%，价值 784.1 亿元，下降 14.2%；集成电路进口 2277.7 亿个，下降 18.5%，价值 1.12 万亿元，下降 17.0%。
在国产半导体自给自足的推动下，中国大陆传统芯片和其他成熟技术集成电路的产量激增，中国已取得不错的成绩。然革命尚未成功，同志仍需努力！
