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如果中国研发出28nm光刻机,美国的芯片禁令,将被瓦解
2023-08-04 来源:互联网乱侃秀
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关键词:光刻机芯片中芯国际

近日,有媒体报道称,国产28nm光刻机即将制造出来,并且是浸润式光刻机。


一时之间,网友们沸腾了,因为这个消息实在太震撼了,要知道目前光刻机已经是国产芯片产业链中,最短的短板了。


而美国针对中国的禁令,也是以光刻机为主,卡住14nm及以下的光刻机及所有先进设备。



而浸润式光刻机,虽然也属于DUV光刻机的一种,经多重曝光之后,却最高可以生产7nm的芯片,你说让不让人激动?让不让沸腾?


几年前,中芯国际的梁孟松就表示,7nm芯片研发已经准备好,只等光刻机,如今假如有了28nm的光刻机,这一切不是迎刃而解了么?


可以说,有了这台28nm的光刻机,那么美国的芯片禁令,都会因此而瓦解,因为再针对14nm工艺,可能都没什么意义了。



当然,这则消息的真假未知,可能是真的,也可能是假的。


为何这么说?我们知道光刻机有三大件,分别是光源系统、物镜系统、工作台。


DUV光刻机的光源系统是一样的,都是采用193nm的紫外线,这一块,中国已经掌握了技术,因为90nm的光刻机,与28nm的光刻机,光源系统区别不是特别大。


工作台这一块,其实差别也不大,目前国内的华卓精科有双工作台技术,也被国产光刻机使用。



物镜系统就差别大了,物镜系统是指收集光线,使其具有可控的方向性,同时将这些光线,按照要求,投射到工作台上。


浸润式光刻机,要在晶圆上方加一层水,然后193nm的光线,经过水的折射后,变成等效134nm波长,所以物镜系统与干式光刻机不一样。


浸润式光刻机的物镜系统非常复杂,甚至可以说是光刻机中最昂贵最复杂的部件之一,涵盖了光学、机械、计算机、电子学等多个学科领域最前沿。



而目前能够制造浸润式光刻机的厂商,就两家,一家是ASML,一家是尼康。目前能够制造浸润式光刻机物镜系统的,全球仅一家,那就是蔡司。


而ASML和尼康这两家的浸润式物镜系统来源,均是蔡司。按照媒体的说法,浸润式光刻机不仅要控制物镜波像差,更要全面控制物镜系统的偏振像差,全球仅有蔡司有这技术。


而蔡司与ASML关于物镜系统是合作研发,双方有协议的,蔡司不能将这些技术,提供给ASML不允许的任何第三方厂商,而尼康获得这个技术是ASML许可的。



所以国产光刻机厂商,能不能掌握这个浸润式光刻机的镜镜系统,很多网友是持怀疑态度的,觉得可能消息是假。


但现在已经是8月份了,离年底也就4个多月时间,那么就让我们拭目以待吧,如果真的28nm光刻机制造出来,芯片禁令就不用怕了。



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