据《中国日报》等多家媒体报道，荷兰最新芯片出口管制措施于今日（9月1日）生效。

对此，荷兰芯片制造设备巨头ASML（阿斯麦）方面回复称，目前，ASML已向荷兰政府提出TWINSCAN NXT：2000i及后续推出的浸润式光刻系统的出口许可证申请，荷兰政府也已经颁发了截至9月1日所需的许可证，允许ASML今年继续发运TWINSCAN NXT：2000i及后续推出的浸润式光刻系统。（注：涉及16nm及以下制程工艺制造部分）

那么根据最新变化，明年1月起，ASML三款先进浸没式深紫外光刻机 (DUV) 设备将不会对中国出口，这对国内半导体产业链将造成深远的影响。NXT: 2000i及后续光刻系统半间距为38nm、对准精度为2.0nm以内，对应是16nm至7nm先进制程芯片的制造（基于芯片类型不同，也可用在45nm及以下的成熟制程当中），因此业界普遍认为，此次受限制的是16nm及以下制程工艺制造。

各个工艺节点和光刻技术的关系

ASML半导体光刻机产品参数

ASML的EUV光刻机历程

2006年，ASML推出了第一台EUV光刻机AlphaEUV演示工具，标志着ASML正式进入EUV光刻机领域。随后，公司开始大力推进EUV技术的研发与生产，不断改进产品的性能与精度，发展了一系列的EUV光刻机产品。2014年，ASML推出了世界上第一台EUV可用于芯片生产的光刻机，标志着EUV技术已经开始商业化。

到了2017年，ASML推出了支持7纳米和5纳米节点的EUV量产型号TWINSCANNXE:3400B，它的分辨率远高于传统的ArFi光刻机，并能够在制造高密度存储芯片时发挥巨大的作用。截止至2022年底，ASML实际卖出EUV光刻机仅182台，在这个数字下，EUV光刻机的市场份额仍然相当小。

ASML的EUV光刻机客户情况

ASML的EUV光刻机客户主要分为两类，一类是制造芯片的企业，如英特尔、三星、台积电，另一类是制造DRAM内存的企业，如美光、SK海力士、三星。这些客户均是全球知名的科技公司，在各自领域拥有着广泛的产品线和市场份额，并且对高精度、高质量的光刻机需求较大。

值得注意的是，ASML仅有5个EUV光刻机客户，这也正是EUV光刻机市场较小的主要原因之一。

EUV光刻机市场需求现状

EUV光刻机是当今半导体生产过程中最重要和最昂贵的设备之一。EUV光刻机的生产成本极高，需要巨额的研发资金和投入，而且其制造流程复杂，技术难度也非常高。同时，EUV光刻机市场的需求量并不像想象中那么大，目前ASML是唯一的EUV光刻机生产商，其它光刻机企业不研发EUV光刻机的原因，是因为会与ASML打价格战，最后双方都会亏损。因此，目前EUV光刻机市场份额比较小，但是其商业价值以及在芯片生产过程中的地位不言而喻。

中国研发EUV光刻机

中国正大力发展芯片制造产业，在芯片高端制造领域持续加强技术攻关。EUV光刻机作为半导体领域的重要制造设备之一，已经成为中国芯片制造产业发展的关键环节。

目前在全球范围内，除ASML之外，中国是唯一一家研发EUV光刻机的企业。由于EUV光刻机的研发周期极长，技术难度极大，中国需要长时间的持续投入。目前，中国还没有成熟的EUV光刻机技术，但中国政府正加大对该领域的投资和扶植，而首次购买EUV光刻机的中国企业——中芯国际也将成为中国EUV光刻机在市场上探索的重要推手。

总结

EUV光刻机是半导体制造领域的重要装备，目前市场份额相对较小，但商业价值和在芯片生产中的地位不容小觑。ASML公司在EUV光刻机领域中占据着重要的市场地位，客户主要集中在制造芯片和DRAM内存领域之内。除ASML之外，目前全球没有其它光刻机企业研发EUV光刻机，这也是EUV光刻机市场需求量相对较小的主要原因之一。中国正积极寻求独立研发EUV光刻机，计划加快在半导体领域的技术攻关和产业升级。