据媒体报道指ASML表示已获得许可对中国供应先进的DUV光刻机，而比之前可以对中国供应的1980Di更进一步，这次获得许可出口的光刻机为更先进的2000i，这意味着荷兰和ASML终于清醒了。

今年上半年，ASML表示它可以对中国出口的最先进光刻机为1980Di，1980Di为38纳米光刻机，可以通过多重曝光的方式实现28纳米工艺生产，不过却会造成成本更高的问题，而2000i比1980Di更先进，可以更好地生产28纳米，甚至还可以用多重曝光的方式实现7纳米工艺。

当年台积电研发的第一代7纳米工艺就是以2000i这款DUV光刻机实现的，由此足可以看出2000i有多么先进，而此前在众所周知的压力下，ASML被限制出售14纳米以下的DUV光刻机，到了今年上半年2000i就被限制对中国出口了。

如今荷兰突然转变态度，给ASML发放许可证，可以将2000i对中国出售，意味着荷兰和ASML的态度发生了重大改变，导致他们的态度发生转变，可能在于中国光刻机技术的进展，以及全球芯片市场的变化。

ASML的1980Di、2000i都是浸润式光刻机，浸润式光刻技术为芯片制造工艺进入28nm及更先进工艺的关键技术，日前中国有知名媒体披露消息指中国的28纳米光刻机将在年底前量产，这意味着国产光刻机解决了浸润式光刻技术，如此中国的浸润式光刻机可望得到加速发展，如此情况下促使ASML抓住时间窗口对中国出口2000i光刻机，抢占市场。

其次则是全球芯片行业发生重大变化，由于芯片供给过剩，三星、台积电和Intel都有放缓扩张的迹象，三星甚至在去年底抢购的10台EUV光刻机如今都只能放在仓库里，因为今年一季度显示三星的库存芯片金额高达3400亿元，被迫减产，如此情况下促使ASML寻找新的客户，而中国当前正需要大举采购光刻机，中国市场成为ASML不可舍弃的市场。

这种迹象其实今年二季度就已有所显现，去年下半年和今年一季度ASML对中国的光刻机出口大幅减少，中国为它贡献的收入低至8%，但是到了今年二季度中国市场为ASML贡献的收入占比猛增至24%，荷兰的出口数据也显示对中国的芯片设备出口猛增。

对比之下，荷兰和ASML一味顺从美国的要求，然而美国芯片行业却并未因此给予他们回报。美光去年研发绕开EUV光刻机的1β工艺，近期Intel又传出重拾DSA技术同样意图绕开EUV光刻机，这都显示出美国芯片行业并未因为ASML的顺从而大举采购EUV光刻机，相反还试图摆脱ASML，这让ASML相当不满。

美国芯片行业试图绕开EUV光刻机，在于EUV光刻机实在太贵了，第一代EUV光刻机售价达到1.2亿美元，第二代EUV光刻机预计售价达到4亿美元，昂贵的价格让美国芯片望而却步，而且如今美国芯片行业也在衰退，至今已有四家美国芯片企业出现亏损，Intel和美光正是亏损最严重的两家芯片企业，他们试图绕开EUV光刻机降低成本也就在情理之中。

ASML当然会不满，美国不让卖EUV光刻机给中国，美国芯片又不卖，如今美国还不允许ASML将技术成熟的DUV光刻机卖给中国，这是不给ASML活路啊。就在2005年之前，ASML那时候还得看着飞利浦的眼色行事，ASML可不希望回到那么艰难的日子。

ASML为荷兰最大的出口企业，ASML的出口深刻影响着荷兰的经济，显然荷兰和ASML在徘徊了数个月之后，终于清醒认识到中国市场是如此重要，如果主动舍弃中国市场，那么他们都将受到重创，允许ASML对中国出口先进光刻机是最有利的选择，他们最终选择了正确的道路。