中商情报网讯：光刻胶又称光致抗蚀剂，是指通过紫外光、电子束、离子束、X射线等的照射或辐射，其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料，是半导体制造中使用的核心电子材料之一。伴随着晶圆制造规模持续提升，中国有望承接半导体光刻胶产业链转移。

市场规模

目前，我国光刻胶产业链雏形初现，从上游原材料、中游成品制造到下游应用均在逐步完善，且随着下游需求的逐渐扩大，光刻胶市场规模显著增长。中商产业研究院发布的《2024-2029全球及中国光刻胶和光刻胶辅助材料行业发展现状调研及投资前景分析报告》显示，我国光刻胶市场规模由2017年58.7亿元增至2022年98.6亿元，年均复合增长率为10.9%。中商产业研究院分析师预测，预计2023年我国光刻胶市场规模可达109.2亿元。

数据来源：中商产业研究院整理

企业布局情况

在“进口替代”的趋势下，光刻胶市场拥有极大的国产替代空间，现有上市公司加速光刻胶产能的布局，具体如图所示：

资料来源：中商产业研究院整理