欢迎访问江南电竞入口安卓版
ASML真的慌!佳能绕开EUV,5nmNIL光刻机出货,可惜不卖给中国
2023-10-16 来源:科技专家
151

关键词:光刻机中芯国际EUV

众所周知,在芯片光刻机领域,有4大厂商,分别是ASML、佳能、尼康、上海微电子。


其中ASML占了85%+的份额,佳能、尼康合计占了15%左右的份额,至于上海微电子,其实就是打酱油而已,份额接近于0%。


当然,最重要的是,用于7nm以下的EUV光刻机,只有ASML能生产,份额占了100%。



为了垄断EUV光刻机,ASML与全球5000多家厂商达成合作,将一些关键技术/公司,买的买,捆绑的捆绑,让这些核心技术,无法向其它厂商供应,所以ASML在EUV领域,连不担心其它厂商有突破。


这也导致其它光刻机厂商,走不通EUV光刻机这条路,只能换道,比如佳能换道NIL纳米压印技术方向,俄罗斯押X射线方向,美国一些厂商,则押BLE电子束方向,欧洲一些厂商押注DSA自生长方向。



而近日,终于传出了重磅消息,那就是佳能的NIL光刻机有了重大突破,佳能(Canon)公司发布新闻稿称,正式开始销售芯片生产设备 FPA-1200NZ2C,这种光刻设备,采用的是NIL纳米压印技术,可以制造 5 nm 芯片。


而这也是全球第一款不使用EUV技术,就能够规模制造5nm芯片的光刻技术,据称设备成本,以及制造芯片的成本,远比EUV光刻技术低很多。



纳米压印的原因,就像印刷书本一样,先刻一个电路板的章子,然后再印到硅晶圆上,目前这套设备,可以应用于最小 14 平方毫米的硅晶圆,从而可以生产相当于 5nm 工艺的芯片。


佳能表示,未来NIL可以实现2nm芯片的制造,不再需要EUV光刻机。


而关于NIL纳米压印,之前SK 海力士和铠侠等存储芯片制造商曾尝试过使用,不过当时的精度是15nm以上,且当时效果不太好,良率低。



不知道这次佳能的新设备如何?很明显,如果佳能的NIL光刻机,真的能够达到5nm,且率良不错,那绝对可以打破ASML在EUV光刻机上的垄断,大家进入5nm时,不一定非得买ASML的设备了。


不过,大家要注意的是,佳能是不可能将这设备卖给中国大陆的,毕竟日本有针对中国芯片的禁令,14nm以下的设备,不能卖的,所以我们还得自研,日本厂商也一样靠不住。



Baidu
map