当华为推出Mate60系列手机，并使用了Kirin9000S芯片后，当时有些博主表示，美国应该会被吓坏了，然后有可能引来更严格的禁令。

毕竟华为突破封锁了，这当然不是美国看到的，所以接下来要么放开封锁，要么更严格的封锁，但考虑到放开是不可能的，美国面子挂不住，所以更严格的一轮禁令，可能很快会到来。

果然，近日美国发布了中国大陆的芯片出口管制条款的更新版本，缓冲时间为30天。

这一次针对去年的管制措施，提出了更多的细节条款，比去年的“史上最严厉规则”更严格，又一次“史上最严”。

在这个“更严”之下，除了对计算性能要求外，还新增了性能密度阈值（“性能密度”等于“总算力”除以晶粒（die）面积），卡的更紧了。

比如原本可以销售的A800、H800这样针对中国大陆市场进行过阉割的AI芯片，以及RTX4090这样的消费级芯片，都无法出口了。

除了针对芯片销售，有更严格的禁令之外，还将13家中资企业纳入实体清单，其中壁韧科技和摩尔线程的子公司加起来就占了9家，打击的是中国GPU厂商，限制中国在AI方面的发展。

除此之外，针对半导体设备，也做出了更严格的限定，尤其是光刻机方面，之前ASML能够出口的NXT:1980Di这台唯一的浸润式光刻机，也会受限，无法出口了。

因为新的禁令中，对光源波长、分辨率、套刻精度的DCO值，也做了更严格的规定，而NXT:1980Di的DCO值超过了限制范围。

也就是说，如果按照美国这个新的禁令，目前ASML所有的浸润式光刻机，都无法出口了。而另外一家能够生产浸润式光刻机厂商尼康，其浸润式光刻机，也无法出口。

这意味着，我们想通过购买浸润式光刻机，再通过多重曝光技术，来生产7nm芯片的路，基本上堵死了。

很多人表示，对浸润式光刻机下手，堵住所有的路，就是为了堵住Kirin9000S的路，因为它其实就是浸润式光刻机采用多重曝光技术之下的产物。

接下来，中国芯会怎么办？我觉得没有其它办法，那就是只有自研和突破。正如张忠谋所言，半导体的全球化和自由贸易已死，我们只有打造自己的供应链才行了，其它一切外力都靠不住。