众所周知，前段时间佳能正式在官网官宣，其旗下的NIL纳米压印光刻机生产设备 FPA-1200NZ2C出货了，而这个光刻机，与EUV光刻机不同，是绕开EUV的另外一种纳米压印技术，但是能够生产5nm芯片。

一时之间，让整个芯片圈震荡，因为以前所有7nm以下的芯片制造，都必须使用EUV光刻机，而全球仅ASML一家能够生产EUV光刻机，佳能此举相当于打破了ASML垄断，能够改写整个市场格局。

不过，当时很多人对佳能的NIL纳米压印光刻机存疑，因为究竟什么时候销售，成本又是什么样的，能效比，效率，良率等都没有。

而近日，佳能首席执行官三井藤夫接受媒体采访，说出了很多关键的指标参数，或许可以部分解决大家的疑问了。

按照三井藤夫的说法，佳能的纳米压印光刻机，其售价只有EUV光刻机的10%左右。同时其耗电量也只有EUV 技术的10%。

另外从总投资成本来看，用NIL纳米压印技术，可让设备投资成本降低至原有EUV设备的40%左右。

而关于纳米压印光刻机，三井藤夫提到，它可以更为灵活的为客户生产小批量芯片，甚至可以让芯片设计工厂，不必再依赖于晶圆代工厂来进行流片，以及生产小批量的芯片。

由此可以推测，其量产能力应该不会非常强，毕竟对于一般的芯片设计企业而言，不需要大规模的产线，只需要小批量的生产线来验证即可，所以纳米压印光刻机，更适用于小规模生产。

估计到了这里，马上就会有人反应过来，那么这比较适合华为，华为是芯片设计厂，但目前因为众所周知的原因，制造被卡了，所以急需这种设备，自己生产芯片，又是5nm工艺。

而三井藤夫正确认，这种设备是不能卖到中国来的，之前日本的出口管制清单，当中就有限制“可实现45nm以下线宽的压印光刻装置”。

而最为明确的规定则是用于14nm及以下芯片制造的设备，是无法出口到中国大陆来的，所以佳能这种设备，也无法卖给中国。

但不管怎么样，虽然我们暂时无法买到，但也给我们指了一个方向，同时也给了ASML一击暴击，后续EUV光刻机，也没这么神了。