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三星自研EUV光罩保护膜透光率已达90%
2023-12-05 来源: 芯智讯
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关键词:三星EUV光罩保护

据韩国媒体Business Korea报导,三星电子DS部门研究员Kang Young-seok表示,三星使用的EUV光罩保护(EUV pellicles)透光率(transmission rate)已达90%,计划将进一步提高至94-96%。


据了解,光罩保护膜是一种薄膜,可保护EUV光罩表面免受空气中微分子或污染物的影响,这对于 5nm或以下节点制程的先进制程技术的良率表现至关重要。另外,光罩保护膜也是一种需要定期更换的消耗品,而由于 EUV光刻设备的光源波长较短,因此保护膜需要较薄厚度来增加透光率。其中,透光率90%的意思是只有90%进入薄膜的光线能到达光罩,这可能会影响电路图案的精度。


三星今年初声称已开发出透光率达88%的EUV光罩保护膜,且这款产品已经可以量产,而Kang表示三星EUV保护膜透光率再度增加到了90%。这比更常见的氟化氩(ArF)制程中使用的薄膜透光率(99.3%)要低。


当EUV光罩保护膜在250瓦光源下操作时,每平方公分会产生的5瓦热量,导致温度高达680℃以上,因此除了降低光源衰退外,还必须解决光罩护膜在EUV过程中遇到的翘曲或断裂等散热问题。


据报导,三星已经在主要客户的部分先进EUV代工生产线上导入了EUV光罩护膜。虽然三星也在DRAM生产线中采用EUV制程,但考虑到生产率和成本,该公司认为即使没有光罩护膜也可以进行內存量产。


目前光罩保护膜主要供应商是荷兰ASML,日本三井化学、信越化学,韩国S&S Tech、FST等。


据Kang透露,三星并没有使用韩国国内供应商提供的EUV光罩护膜,而是与日本三井化学合作,为唯一供应商。


虽然FST和S&S Tech等韩国公司正积极开发EUV光罩护膜,但还没实现量产。相比之下,台积电早在2019年开始使用自行开发的光罩保护膜,并已在7nm以下制程的生产线使用。2021 年宣布产能比2019 年提高了20 倍。



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