近日，有很多媒体表示称，中国大陆的晶圆厂，正在和国内某手机巨头一起，利用DUV深紫外线技术，制造5nm的芯片，具体的芯片可能很快就要推出。

虽然消息不知真假，但结合前段时间浸润式光刻机之父林本坚的说法，还是靠谱的，林本坚表示称，浸润式光刻机，可以制造5nm芯片，只是成本有点高而已，需要4重曝光。

事实上，很多专业人士有示，浸润式光刻机的工艺级限，绝不是7nm，甚至也不是5nm，理论上连2nm芯片都能造。林本坚也表态了类似观点，他说浸没式DUV光刻技术，最高可以实现六重光刻模式，可以实现更先进的工艺。

只是，先进工艺下，DUV技术需要更多重的曝光技术，会显著降低良率，降低制造效率，进而提高成本。

所以，在能买到EUV光刻机的情况下，到了7nm时，就会使用EUV紫光线来制造，与使用DUV相比，更为经济有效，因为不需要多重曝光，良率高，成本更低。

但大家都清楚，国内买不到EUV光刻机，所以再难，再成本高，也只能用DUV光刻技术，去制造比7nm更先进的技术，这是没办法的事情。

所以这些媒体报道称的，拿DUV技术，制造5nm芯片，也并不离谱，非常有可能，甚至哪一天传出拿DUV制造3nm芯片，也有可能，不是在吹牛的。

当然，现在5nm芯片还没造出来，但只要造出来了，就宣告美国的制裁基本失败了。因为美国去年的政策，是将中国逻辑芯片锁死在14nm的。

但今年，等效于7nm的芯片出来了，然后要是再有了等效5nm的芯片，当然意味着这个封锁彻底失败了。

更重要的是，目前全球使用5nm以下工艺的芯片，就只有苹果的A17系列芯片、M3系列芯片，以及高通、联发科最新的Soc，除了这些芯片之外，其它所有芯片都是使用5nm或更成熟的工艺，5nm及更成熟工艺的芯片占比超过97%。

那么从市场份额来看，只要能够制造5nm工艺的芯片，意味着全球至少97%的芯片都能够制造了，仅仅只有3%的芯片制造不出来。在这样的情况之下，我们还需要担心封锁、打压么？

所以，这颗5nm芯片希望是真的，只要它一推出来，估计美国的封锁就彻底沦为笑话了，也就没有存在的必要了，也意味着中国芯片产业正式腾飞起来了，你觉得呢？