前段时间，有媒体报道称，英特尔已经拿到了ASML最新的2nm芯片EUV光刻机。

这种EUV光刻机型号叫做EXE:5200，和之前的EUV光刻机相比，最大变化是数值孔径NA，从低数值0.33，变成了现在的0.55。

外界称这种新的EUV光刻机是High-NA系统，之前的称之为Low-NA系统。

ASML之前就表示过，当NA提升到0.55之后， 基本无法现提升了，所以ASML认为这种光刻机，可能是最后一代EUV光刻机，未来能不能提升，ASML自己也没有信心了。

这种光刻机，能够用于2nm及以下芯片的制造，因为NA更高，分辨率就更高，工艺制程就能更低，据称最低可以实现到1nm以下芯片的制造。

这种NA=0.55的光刻机，重150吨（15万公斤），运输的时候，需要250个集装箱盒子，同时在拆开运到目的地之后，需要250个工人，安装调试6个月（180天）之久，才能够全部安装完成。

目前台积电、三星两家已经实现了3nm工艺，按照规划，这两家晶圆厂，将会在2025年实现2nm，而intel则表示将在2024年实现2nm工艺。

所以不用怀疑，这种新一代的EUV光刻机，一定会再次遭到几大晶圆厂的疯抢，因为大家都想在2nm时候，占据先机，抢夺更多的产能，成为晶圆制造的老大。

所以近日，ASML表示称，自己已经收到几大客户关于新EUV光刻机的订单，数量大约是20个左右。而未来它要争取能够每年生产20个这样的光刻系统。

而这种光刻机，一台价格大约在3.8亿美元，20台就是76亿美元，算下来就是540亿元人民币。而上一代EUV光刻机的价格只有1.8亿美元左右。

和上一代光刻机相比，每台高出2亿美元，20台就是40亿美元，相当于290亿元，ASML真的是大赚特赚了，因为新一代的成本，肯定不会提升100%吧。

在2017年的时候，美国就已经明确禁止ASML将EUV光刻机卖到中国大陆来，哪怕是最古老的EUV光刻机，都不能卖给中国大陆，所以ASML技术再先进，我们也得依赖自己，独立搞出来才行……