业界人士指出，某科技企业即将发布的芯片预计性能接近5纳米，这是中国芯片的又一个重大进展，凸显出中国芯片行业在各方的协作下再次打破芯片工艺的限制，为国产芯片开辟了新道路。

此前这家科技企业就以国内现有的芯片设备生产出接近7纳米工艺的芯片，凸显出它的创新性，以及国内诸多芯片技术人才在技术研发方面的独特优势。

以现有的DUV光刻机生产7纳米工艺，最早是台积电量产成功的，当时台积电先是以DUV光刻机生产7纳米工艺，确保7纳米工艺的进展，随后再以EUV光刻机生产7纳米工艺，进一步提升性能。

台积电如此做法也证明了它的正确性，三星则比台积电提前一年以EUV光刻机生产7纳米工艺，导致良率偏低、成本偏高，客户不接受，最终大多数芯片企业都接受了台积电的7纳米工艺，三星则未能以更先进的7纳米抢到客户。

谈到台积电先进工艺的研发，就不得不提到台积电前副总裁林本坚，他被誉为浸润式DUV光刻机之父，林本坚最先研发出浸润式DUV光刻机技术，不过当时占优势的日本光刻机企业看不上，处于窘境中的ASML找上门来合作，ASML也由此迅速成为全球最大的光刻机企业，由此双方一直合作研发浸润式DUV光刻机。

林本坚为台积电快速推进先进工艺的研发立下了汗马功劳，他当然清楚DUV光刻机的极限，去年林本坚就指出中国完全可以DUV光刻机生产5纳米，如今中国芯片企业即将量产5纳米，印证了林本坚的预测。

中国这家科技企业当年也与台积电一起推进芯片制造工艺，从16纳米一直到5纳米，双方都有合作。与苹果只是将芯片交给台积电生产不同，这家中国科技企业与台积电一直都深入合作研发先进工艺。

当年台积电量产的第一代16纳米工艺性能较差，导致全球仅有两家芯片企业采用，中国这家科技企业正是第一代16纳米工艺的客户之一，随后双方又合作研发16纳米FinFET工艺，才获得全球芯片企业的认可，此后一直到5纳米工艺，这家中国科技企业都是台积电先进工艺的尝鲜客户，有力地帮助台积电提升了工艺良率。

如此做法也为这家中国科技企业积累了不少的芯片工艺研发技术，它在去年推出的5G芯片采用国产7纳米工艺，就被认为它出了大力；如今有望推出国产的5纳米工艺可以说是顺理成章吧，国产芯片工艺的进展，对于国内芯片企业具有很重要的意义，毕竟如今手机芯片、AI芯片都需要先进的工艺。

国产先进工艺的进展，对于这家中国科技企业来说同样非常重要，它的诸多芯片诸如手机芯片、服务器芯片、AI芯片等都需要先进工艺，但是台积电却无法为它代工，这促使它不得不深入芯片工艺研发，这也将帮助它进一步抢占国内市场。