说起芯片制造过程中，最重要的设备是什么，相信绝大多数人都会说是光刻机。

从光刻机的全球格局来看，荷兰的ASML是独霸天下，EUV光刻机只有它能够生产，而日本的佳能、尼康早已沦为二流，中国的上海微电子落后了十多年，在奋起追赶。

而美国虽然在芯片领域占了全球近50％的市场，却没有光刻机厂商。

事实上，光刻机最早是由美国发明的，那么问题就来了，为何发明了光刻机，美国却自己没有光刻机，最后是ASML称王？

光刻机的原型，最早出现在上世纪的五、六十年代，那时候贝尔实验室就已经搞出了这种东西，但一直没有重视，毕竟当时的芯片制造并不依赖光刻技术。

再加上研究这东西，成本太高，且在当时对芯片制造，也没太多有价值的作用，于是美国厂商也不重视它。

后来在七、八十的年代，日本半导体高速发展，日本的佳能、尼康在光刻机领域崛起，于是美国从事光刻业务的相关企业，基本就没落了，后来美国搞光刻机的企业Cobilt甚至被卖掉了。

后来英特尔与欧洲公司 Censor 合作，想要搞一台类似于光刻机这样的新东西出来，然而尝试失败了，最终整个光刻机市场被尼康、佳能占据。

后来到了2004年，台积电提出了浸润式光刻方案，当时的光刻机巨头尼康、佳能并不看好，反而小企业ASML决定试一试，于是一试成功，仅5年时间，就成为全球光刻机巨头，把尼康、佳能甩到了身后。

后来ASML担心自己被制约，也担心其它芯片厂商扶持另外的光刻机企业，威胁到自己的地位，于是想了一招，让intel、台积电、三星等成为了自己的股东。

同时ASML还加入了英特尔牵头搞的前沿组织EUV LLC，成功站队，让美国对ASML也不再担心，于是也不限制ASML的成长。

而美国也觉得ASML是受自己控制的，让他发展也没什么，也会被自己所用，再加上搞光刻机也确实很难，没什么企业愿意去搞，反正找ASML买就行了，所以导致美国没有光刻机厂商。