11月24日消息，据外媒报道，就SK海力士打算引入EUV光刻机到其中国无锡工厂被阻这一传言，SK海力士CEO李锡熙予以否认。

此前，曾有消息称SK海力士希望引入ASML（阿斯麦）最先进的EUV设备，升级其无锡芯片厂的设备产品，以提高量产能力，控制成本并加速生产效率。

不过，SK海力士这一决定受到了美国方面的反对，理由是向中国运送此类先进工具可能被用来加强中国的军事力量。

一名白宫高级官员拒绝就美国官员是否会允许SK Hynix将EUV工具带到中国的问题发表具体评论。但这位官员表示，拜登政府仍专注于阻止中国利用美国及其盟国的技术来发展最先进的半导体制造，以帮助中国实现军事现代化。

早在今年举行的第14届半导体日仪式上，SK海力士CEO李锡熙就表示；SK海力士从7月开始在韩国利川工厂使用EUV光刻设备批量生产1A（第4代）纳米产品。关于引进EUV设备到中国无锡工厂一事，我们还有足够的时间，所以我们将通过与美国政府的合作，把设备引进到该工厂。

据悉，SK海力士是全球最大的DRAM存储芯片供应商之一。从智能手机到数据中心，几乎所有领域的电子设备都可以看到DRAM存储芯片。在全球DRAM市场上，SK海力士是第二大供应商，市场份额为29％。而三星则是以高达42％全球市场份额占据第一，两家公司的合计份额高达71％。

并且，根据公开资料显示，SK海力士无锡工厂DRAM产能占SK海力士全部产能的50％，在全球总量中占据15％，无锡工厂的产量在全球电子产业链中占据重要地位，其任何重大变化都可能对全球储存芯片市场产生影响。

目前事态发展还未明确，SK海力士是否能如愿引进EUV光刻机，还需等待后续消息。